氧化硅抛光液 MYH SOP05

铭衍海微电子

一、产品简介MYHSOP05 是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型 CMP 抛光耗材。产品以5nm 单分散球形纳米 SiO₂为磨料，采用稳定碱性水性体系，经多级纯化、精密分散与颗粒调控工艺制成，专为半导体、光学、显示面板、蓝宝石等材料的纳米级超精密抛光设计。其突出特点是低缺陷、高洁净、高平坦、易清洗，可实现原子级表面光洁度，广泛用于各类硬脆材料的最终精抛工序，性能对标进口高端氧化硅抛光液，性价比与供货稳定性优势明显。 二、核心产品参数· 产品型号：MYHSOP05· 外观：半透明液体，无沉淀、无分层· 核心磨料：纳米胶体二氧化硅（SiO₂）· 一次粒径nm：3-10 nm· pH 值（25℃）：9.5-10.5· 包装：1kg/桶，9kg/箱· 保质期：未开封 6 个月三、产品特点1. 超精密低缺陷抛光5nm 超细粒径 + 单分散球形颗粒，抛光后表面粗糙度 Ra≤0.2 nm，无划痕、麻点、橘皮纹，亚表面损伤极低，适合终抛镜面加工。2. 超高纯度与高洁净度多级纯化工艺，重金属离子含量极低，可有效避免半导体、光学器件的离子污染；不含氯、硫、磷及 VOC，环保安全。3. 分散稳定、工艺友好体系稳定性强，长期存放不沉降、不团聚，适合自动化连续产线使用；化学作用温和，去除速率稳定可控，不易过抛。4. 易清洗、无残留水性体系亲和性好，抛后工件易冲洗，无磨料残留，不影响后续镀膜、键合、封装等工序。5. 通用性强、适配广泛可原液使用或轻度稀释使用，兼容聚氨酯垫、麂皮垫等多种抛光垫，适配多类硬脆材料精抛。6. 国产替代、高性价比性能对标国际高端 5nm 氧化硅抛光液，成本更低，交期稳定，支持批量供货与参数定制。四、应用领域· 半导体微电子硅晶圆最终精抛、ILD 层间介质 CMP、化合物半导体（GaAs、InP 等）抛光、光掩模精抛。· 高端光学元件光学镜头、棱镜、滤光片、光纤连接器、激光晶体、石英元件的超精密镜面抛光。· 显示与消费电子LCD/OLED 玻璃基板、手机盖板玻璃、摄像头玻璃、手表镜面精抛。· 蓝宝石与晶体材料蓝宝石衬底、窗口片、铌酸锂、钽酸锂等晶体精抛。· 精密陶瓷与硬脆材料氧化铝 / 氧化锆陶瓷、陶瓷轴承、密封件、硬盘盘片精抛。五、使用建议· 推荐使用方式：原液直接精抛，高要求场景可 1:1～1:3 去离子水稀释。· 适配抛光垫：精抛聚氨酯垫、麂皮垫、高密度无纺布垫。· 后处理：抛后用去离子水或中性清洗剂冲洗，超纯水漂洗干燥。· 储存：5–35℃密封避光保存，避免冻结与高温暴晒。